HS_T 15-2006 微化锆英砂的鉴定方法
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ID： |
730CF23B1C3C4622976DFD82248C7543 |
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文件大小(MB)： |
0.67 |
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7 |
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日期： |
2024-8-13 |
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ICS 91. 100.15,D 00/09,中华 人民共和国海 关 行 业标准,HS/T 15—2006,微化错英砂的鉴定方法,I dent i f i cat i on of mi c-z i rcon i um s i Ii cate,2007-03-28发布2007-04-01 实施,中华人民共和国海关总署发布,69,HS/T 15 2006,刖 百,本标潜附录r 附录r为资料性附衆,本标准由中华人民共和国海关总詈关税征管司提出,本标准由中华人民共和国海关总署政策法规司归口,本标准的起草单位:中华人民共和悯上海海Xo,本标淮主要起草人:孔洲.員芳华,卄劲梅、刘敏,耿俊、.楚颖,70,HS/T 15 2006,微化错英砂的鉴定方法,1范,本标准规定r微化本英砂的鉴定方法的技术要求,本标淮适用ド徹化怙英砂和培英砂区分的鉴定,本标淮不适用于其他错的化合物的鉴定.：,2规范性引用文件,下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标港的条款 凡是注日期的引用文件.其随后所冇,的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用尸本标推.然而,鼓励根据本标准达成协议的各方,研究是否可使用这些丈件的最新版本）凡是不注H期的引用文件.其最新版本适用于本标准,GB/T 19077. 1-200J粒度分析ー激光散射法,JY/T 009-1996转靶多晶体X射线衍射方法通则,JY/T 016-1996波氏色散型\射线荧光光谱方法通则,3 总则,使用ズ射线衍射法测定样晶晶型;使用K荧粕光谱法测定样品中品化物的组成;使用激光衍射法,粒度分析法测定样品粒度分布,4技术要求,本标准测定的微化俯英粉样品的技术要求应符合下列表1要求:,表1微化培英粉样品的技术要求,5 仪器设备,徴化恰英眇的总址> 90%,貝衍對測定出的物相信图与硅酸恠的X行射标准谱图的峰位和峰强比例的恒网,粒度分布体枳累枳イ、k F 1（）111.1的含址> 如济 （U、5OW11）陽ih）,和标准使用下列仪器设备:,H） X射线带射仪;,b） X射线荧光光谱仪:,c）激光衍射法粒度分析仪,6 检验步職,6.! X射线衍射仪对其晶型进行测定,6.1. 1仪器分析条件,本标准推荐的分析条件如下:,步氏［c2Th. ］ ： 0.02,开始角度ド2Tル］：15.00,结束角度［”Th. ］： 80,徒吊设置:40 kV. 40 mA,步进时间［r:5.0000,7I,HS/T 15 2006,靶材:Cu,6. 1.2试样的测定,按JY/T 009-1996的制样和测定步骤.取少抜样品放置于样品架上,用载玻片压平,测定出硅酸,結的特定晶型（品型数据参见附录A）,6.2 X荧光光谱仪对其组分进行半定量分析,6. 2. 1仪器分析条件,本标.推荐的X荧光光谱仪分析条件应満足下表的要求:,表2 X荧光光谱仪分析条件,ka 、丒晶体收集體检测器起始角度Th 结束角度!h,X一（ン1.1I- 220 150 gm 内抵14.0 18.6,Tr-Sn LiF 200 150 gm 闪抵12.() 21.0,Hr-Mu LiF 220 150 gm 闪抵26.6 45.0,Zn-Hr 1」220 150 iiu 闪抵42.0 62.0,V心1」:20 150 gm 流仙61.0 126.0,F-V LiF 200 150 gm 流址76. 0 142.0,P-Cl (；h ill 71X) gm 流址91.0 146.0,Si-Si PE 002 700 gm 流址100. 0 115.0,AI-AI PE 002 7IM) gm 流址134). 0 147.0,O-Nu PX 1 700 gm 流址20. 0 60.0,6. 2.2试样的测定,按ハ，T 016 -1996的制样和测定步驛?取适献样品装入样品皿.样品量以不超过皿口高度为宜,用每平方厘米300千克的压カ在压片机上制片,测定样品中米化怙的含hh并同时检测其他转化物的,含量,6. 3激光衍射法粒度分析仪对其粒度分布进行分析,6. 3. 1仪器分析条件,本标准推荐的分析条件如下:,分散介质:蒸墙水（如果冇明显团聚现象,可改用0.2%六偏璘酸納水溶液）;,超声波振荡器振荡约!0 min；,样品后约0.3呂ー0.5 乂（或以仪器自检程序建议的最佳用心）；,分散介质折射率:1.333.,6 . 3.2试样的测定,按GB/T 19077. ”2003的制样和测定步驟.測定样品粒度分布,计算出体枳累枳不大户10ル山含,tto,7分析结果的表述,7 . 1 X射线衍射仪结果,样品衍射数据,以及硅酸皓、转化钻和数化硅的衍射故据对比,7 .2 X射线荧光光谱仪结果,报吿微化硅酸牯中主要氧,化物含整,7 .3粒度分布,报告样品休枳累积棺度分布及不大r 10 Rn粒度分而的禽トk,72,HS/T 15 2006,8 仪器的校准,本标准所采用仪器应进行以下校准:,h) X射线衍射仪预先用硅品体校正峰位;,b) X荧光光谱仪儉先用所带标样校正J,ハ 激光衍射’粒度分析仪应定期用标淮颗粒校验,73,HS/T 15 2006,*勺.Zircg7D8b5,so,强度一%,附录A,（资料性附录）,晶型分析图,40 50 60,的射向(*2TheU),70 80,A. 硅酸错标准XRD 谱,74,HS/T 15 2006,附录B,（资料性附录）,粒度分析图,区积累根米度,0- I,0.4,6,5,4,3,2,体枳(%),4 b 10 20 40 60 100 200 400,体积也度（Hi米,1000 2000,图B. 微化硅酸结样品粒度……
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